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電鍍砝碼理論知識
點(diǎn)擊次數(shù):250 更新時間:2024-12-10

電鍍砝碼理論知識

砝碼鉻鍍層的特征

1、鉻鍍層的物理性能及化學(xué)性能

鉻鍍層的顏色為略帶淺藍(lán)色的銀白色。鉻鍍層有優(yōu)秀的特征,比如,硬度高、耐熱、耐酸、耐堿、耐硫化物、耐有機(jī)酸、順磁、不變色;鉻鍍層的摩擦系數(shù)低,特別是干摩擦系數(shù)在所有金屬中是的,所以,鉻鍍層擁有很好的耐磨性;鉻鍍層與橡膠、膠木、塑料等非金屬資料黏附力差。所以,這種資料的模具采納電鍍鉻后簡單脫模,且模具表面粗拙值越小,壓制產(chǎn)品的亮度越高、越雅觀,模具使用壽命也可提升。

2、鉻鍍層的硬度和應(yīng)力

在正常鍍鉻工藝條件下,鉻鍍層硬度為HRC55~HRC65和HV750~HV1200。電鍍鉻比由高溫治金法獲取的金屬鉻硬度高得多,最硬的鉻鍍層可達(dá)到剛玉的硬度,比其余的現(xiàn)有電鍍層硬度都高。比如,它是鐵、鈷和鎳硬度的 2倍左右。它的硬度比經(jīng)過滲碳、滲氮、碳氮共滲、硬化辦理的鋼以及經(jīng)過熱辦理的合金構(gòu)造鋼的硬度都高。電鍍時的氫、外來離子的性質(zhì)、內(nèi)應(yīng)力增添是鉻鍍層擁有高硬度的主要要素。資料抵擋硬物壓入表面的能力叫做硬度。在測定鍍層硬度時,常使用維氏硬度計(jì),可依據(jù)鍍層厚度只要 5~ 200gf 的小壓荷使壓痕深度達(dá)到鍍層厚度的 1/7~ 1/10,在鍍層斷面上測定硬度時,能夠針對鍍層厚度選擇適合的壓荷, 測度方法相同, 測出的硬度偏差較小。 加厚鉻鍍層假如大于100m 時可采納洛氏硬度計(jì),在非工作面長進(jìn)行測定鉻鍍層硬度。這種方法測準(zhǔn)時能夠直接看出鉻鍍層的硬度,使用較方便。在電鍍過程中,因?yàn)楦鞣N原由惹起鍍層品體構(gòu)造的變化,常會使鍍層有伸長或縮短的趨向,但因鍍層已被固定在基體上,促進(jìn)鍍層處于受力狀態(tài),這種作用于鍍層單位面積的力稱為內(nèi)應(yīng)力。在鍍鉻過程中應(yīng)力的產(chǎn)生,主假如電析應(yīng)力。鉻鍍層結(jié)協(xié)力很好,2940Mpa 以上的而在早期電析應(yīng)力特別大,能夠察看到張應(yīng)力,同時跟著鍍層的增厚其實(shí)不會轉(zhuǎn)變?yōu)閴簯?yīng)力,但這些都不影響鉻鍍層的結(jié)協(xié)力。所以鉻鍍層結(jié)協(xié)力差,主假如因?yàn)榛w表面潔凈工作沒有做好,而電析應(yīng)力不是致使結(jié)協(xié)力差的原由。

3、鉻鍍層的耐磨性

鉻鍍層因?yàn)橛衅涮貏e的構(gòu)造而形成很高的硬度,因?yàn)橛捕雀?,使耐性也提升。但鉻鍍層的耐磨性利害,不只是是硬度,還有金屬的延展性和彈性等也是耐磨性的決定要素。經(jīng)過試驗(yàn)以為鉻鍍層的維氏硬度為HV750~HV800 時擁有較大的耐磨性。鍍鉻層厚度與耐磨性有必定關(guān)系,同時對使用壽命也有直接的影響。使用壽命與厚度固然不完整成比例關(guān)系,可是厚度減小,使用壽命就會大大縮短。假如考慮表面耐性,則要示鉻鍍層厚度大于受沖擊的部件,鉻鍍層厚度不該小于15 μm。關(guān)于鋁合金的熱沖模,鍍鉻后能降低黏附性,以上壓模鉻鍍層厚度往常為10~20m。橡膠模具和塑料模具鉻鍍層厚度只需求3~5μm即可,橡膠模具和塑料模具經(jīng)鍍7.5 um。


對比是低的。砝碼鉻鍍層與鋼鐵資料的摩擦系數(shù)為

鍍鉻溶液的構(gòu)成

1、鉻酐(CrO3)(分子量:76)

鉻酐的水溶液是鉻酸,它是電解液的主要成分。因鍍鉻工藝采納不溶性陽極,所以它是鉻層的來源。鍍硬鉻所用的電解液含鉻酐量一般在 200g~ 300g 之間,在標(biāo)準(zhǔn)鍍鉻電解液中含鉻酐為250g ,此中大概含鉻 125gL 。

2、硫酸(H

SO)(分子量:66)當(dāng)有SO2-存在時,它與溶液內(nèi)的三價鉻生成復(fù)雜的含有硫酸和三價鉻的陽離子團(tuán)這種陽離子團(tuán)跑向陰極,促進(jìn)堿性鉻酸鉻「Cr(OH)3fCr40(50 4)·(H20)41離子能在陰極1的薄膜溶解,使.Cr(OH)CrOCrO上放電析出金屬鉻。

當(dāng)鍍鉻溶液的酸度為PH值為3時,能有堿式鉻酸鉻[Cr(OH)3·Cr(OH)CrO 4]的薄膜存在,沒有硫酸鹽該堿式鉻酸鉻的薄膜轉(zhuǎn)向陰極,并給它包上能透過氫離子的膠體薄膜。時,硫酸鹽的作用就是利用它的吸附作用,減低膠體的電流密度,防止在陰極上形成堅(jiān)固附著的膠體層。

所以,在陰極表面上,其余離子就有了復(fù)原的可能。假如純真考慮到負(fù)電荷的 SO42-與陰極表面互相作用,則難以相信 SO4-離子能抵達(dá)陰極表面。因?yàn)榱蛩岣?SO42-)離子的尺寸不而電荷高,所以簡單被正電荷的膠體所汲取,并馬上與三價鉻生成綠色的而無反響能力的陽離子團(tuán)[Cr4O(SO 4)4·(HO)4]2+,這種離子團(tuán)能經(jīng)過薄膜而不發(fā)生明顯變化,抵達(dá)陰極表面以后,離子放電,而硫酸根離子變?yōu)橛坞x狀態(tài)。生產(chǎn)實(shí)踐證明,為了獲取高質(zhì)量的鉻鍍層應(yīng)十分注意鍍液中的鉻酐與催化劑的濃度比,而關(guān)于催化劑絕對含量相對而言其實(shí)不那么重要。當(dāng)[CrO3]/[SO42-]為100:1 時,電流大。當(dāng)[CrO3]/[SO42-]小于 100:1時,鍍層的光明性和致密性有所提升。但鍍液的電流效率和分別能力下降。當(dāng)[CrO31TSO4--1小于或等于 50:1時,因?yàn)榇呋瘎┖科撸?使陰極膠體膜的溶解速度大于生成速度,陰極電勢達(dá)不到鉻的析出電勢,致使局部以致所有沒有鉻的堆積,鍍液的電流效率降低,分別能力明顯惡ICrO 342-化,并且鍍液顏色變暗,陰極鄰近產(chǎn)生渺小的氫氣泡;當(dāng)]大于 100:1 時, SO 42含量不足,V/ISO200:1,SO42-含量嚴(yán)重不足,在鍍層上會產(chǎn)生黑色條紋,鍍層的光明性鍍液的電流效率降低;若比值超出銘鍍層表面會出現(xiàn)粗拙的小顆粒,光彩性差,鍍液顏色也會變淡,陰極鄰近將產(chǎn)生大批氫氣泡,并會產(chǎn)生剝落現(xiàn)象。因?yàn)镾O4-含量太低,陰極表面上只有極少部位的膜被溶解,即成膜的速度大于溶解的速度,鉻的析出受阻或在局部地域放電長大,所以獲取的鍍層粗拙。


3、氟硅酸鈉(Na 2SiF6)(分子量:188)

氟硅酸根離子在電鍍過程中起著與硫酸根離子相像的作用,但氟硅酸根離子還有其獨(dú)到長處。比如,鉻鍍層簡單鈍化,常常在鍍鉻過程中電流中止或進(jìn)行二次鍍鉻時,所獲取的鍍層為乳白色而無光彩:而有氟硅酸根離子存在時,所獲取的鉻鍍是光明的,因?yàn)樗鼡碛惺广t鍍層表面活化的作用。采納含氟硅酸根離子的鍍液比標(biāo)準(zhǔn)鍍鉻溶液優(yōu)勝,當(dāng)鍍液溫度在士 5℃時,相同能獲取光彩仔細(xì)的鉻鍍層,并且比標(biāo)準(zhǔn)鍍鉻溶液所獲取鉻鍍層光彩雅觀,為帶有淺藍(lán)銀白色的光明鉻鍍層。程正常進(jìn)行。電解液的分別能力很低,不易獲取平均的鍍層。要想等到厚度平均的鍍層,,一定采納適合的夾具、象形陽極、協(xié)助陰極或絕緣障蔽等舉措。20A/dm 2以上;鍍鉻槽電壓較高,往常6~ 12V 。

4、鍍鉻使用的電流密度很高,電流密度常在

5、鍍鉻電解液的電流效率較低,一般鍍鉻電解液的電流效率在20% 左右。

6、陽極采納鉛、鉛一銻合金或鉛一錫合金等做不溶性陽極,不可以用金屬鉻作陽極。

7、工藝參數(shù)對鍍鉻層性質(zhì)有影響,采納不一樣的電流密度和溫度,可獲取不一樣性質(zhì)的鍍鉻層。鍍鉻過程還有三個特別現(xiàn)象:陰極電流效率隨鉻酸濃度的高升而降落,降溫度高升而降落,隨陰極電流密度的高升而高升。


 
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